글로벌 화학기업 바스프가 반도체·디스플레이 공정용 차세대 황색광 솔루션을 공개하며 저전력·저탄소 기반 공정 기술 확대에 나섰다.첨단 반도체 공정에 필요한 단파장 차단 성능을 유지하면서도 기존 조명 대비 에너지 사용량을 줄일 수 있어 포토리소그래피 산업의 효율 개선 기술로 주목받고 있다.바스프는 18일 반도체와 인쇄회로기판, 디스플레이, LED, 태양광 산업 등 포토리소그래피 기반 공정에 적용할 수 있는 고효율·저탄소 황색광 솔루션을 공개했다고 밝혔다.이번 기술은 황색광 공정에 필요한 엄격한 스펙트럼