중국이 자체 개발한 전자빔 리소그래피 기계 '시지'를 공개하며 반도체 기술 자립을 위한 첫걸음을 내디뎠다고 15일 IT전문매체 폰아레나가 보도했다.리소그래피 기계는 칩 제조에서 회로 패턴을 웨이퍼에 새기는 핵심 장비로, 기존의 심자외선 장비가 7나노 이하 칩 생산에 필수적이지만, 미국의 수출 규제로 중국은 첨단 장비 확보에 어려움을 겪어왔다.'시지'는 저장대학에서 개발한 전자빔 리소그래피 기계로, 8nm 수준의 회로를 새길 수 있으며, 위치 정확도는 0.6nm에 달해